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飛納電鏡出席第 24 屆 IPFA 會議

 更新時間:2017-07-18 點擊量:2499

?2017 年 7 月 4 日-7 日,第 24 屆 IPFA 會議在四川成都盛大舉行,飛納電鏡攜飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX 出席了此次會議。

 

 

IPFA 是有關半導體物理分析、失效分析及可靠性方面學術水平zui高、規(guī)模zui大、影響zui廣的會議,IPFA 是 International symposium on the physical & failure analysis of integrated circuits 的簡稱,中文全稱集成電路物理與失效分析會議。1987 年,首屆 IPFA 會議由 IEEE 失效分析分會在新加坡舉辦,2001 年之前,IPFA 會議每兩年舉行一次。2002 年起每年舉行一次。IPFA 已經(jīng)發(fā)展為舉足輕重的可靠性與失效分析會議組織。在美國,相應的會議為 IRPS(可靠性物理會議)和 ISTFA(測試與失效分析會議);在歐洲,相應的會議為 ESREF(歐洲電子器件可靠性與失效物理分析會議)。本次 IPFA 會議,飛納臺式掃描電鏡操作簡單,快速方便,成像清晰,能譜靈敏,設計精巧給來訪者留下了深刻的印象。

 


飛納電鏡應用工程師現(xiàn)場給來訪者展示樣品測試

 


飛納電鏡內(nèi)部集成彩色光學顯微鏡全景導航(右上角)

 

由于半導體器件體積小、重量輕、壽命長、功率損耗小、機械性能好。因而適用的范極廣。然而半導體器件的性能和穩(wěn)定性在很大程度上受它表面的微觀狀態(tài)的影響。一般在半導體器件試制和生產(chǎn)過程中包括了切割、研磨、拋光以及各種化學試劑處理等一系列工序, 正是在這些過程中,會造成表面的結(jié)構(gòu)發(fā)生驚人的變化,所以幾乎每一個步驟都需要對表面進行檢查,而生產(chǎn)大型集成電路就更是如此。目前,掃描電鏡在半導體中的應用已經(jīng)深入到許多方面。

 

飛納臺式掃描電鏡 15 秒抽真空,30 秒成像,大大提高了半導體器件的檢測效率。操作比光學顯微鏡簡單,相對于傳統(tǒng)落地式掃描電鏡能更快地得到掃描電鏡圖像結(jié)果。飛納電鏡使用長壽命 1500h,高亮度(是鎢燈絲亮度的 10 倍),低色差的 CeB6 燈絲,圖像信號充足。

 


飛納電鏡拍攝的集成電路內(nèi)部 放大倍數(shù) 20000x

 


飛納電鏡拍攝的集成電路內(nèi)部 放大倍數(shù) 50000x

 


飛納電鏡拍攝的微機電電路 放大倍數(shù) 5000x

 


飛納電鏡拍攝的微機電電路 放大倍數(shù) 10000x

 


飛納電鏡拍攝的 LED 芯片截面 放大倍數(shù) 70000x

 


飛納電鏡公司及產(chǎn)品介紹

 

感謝本次第 24 屆 IPFA 會議,為半導體行業(yè)的工作者和飛納電鏡筑起了一座橋梁,讓很多半導體行業(yè)的工作者全面了解飛納電鏡的使用方法及性能,也讓飛納電鏡的工程師了解了半導體行業(yè)的研究熱點與方向。

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